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在许多先进的半导体元件制造中,化学机械抛光(CMP)是非常很需要的制造技术。化学机械抛光在特定的制造步骤间,让硅晶圆表面达到***的平面化,使更多层电路可以垂直地在元件上制造。PVA海绵具有较好的亲水性能和较好的柔韧性,不易划伤硅片,且去除颗粒效果好。PVA海绵在半导体制造业的CMP后清洗中有着重要的应用。东安开发有限公司的**生产线能生产出具有比较好良的机械强度和亲水性能的PVA海绵。ProCleanTM PVA清洁材料的工作原理:在清洁过程中改变PVA(聚乙烯醇)的分子结构,使基片,PVA,水及